[단독] 삼성전자, 5나노 공정 수율개선 박차...2Q 내부 목표수율 도달
[단독] 삼성전자, 5나노 공정 수율개선 박차...2Q 내부 목표수율 도달
  • 박상인 기자
  • 승인 2021.05.13 13:29
  • 최종수정 2021.05.13 13:32
  • 댓글 0
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강인엽 삼성전자 시스템LSI사업부 사장

[인포스탁데일리=박상인 기자] 삼성전자의 5나노 공정 수율 개선세가 가파르다. 삼성전자는 이르면 2분기 내로 5나노 공정 내부 목표수율에 도달하는 것으로 확인됐다.

13일 인포스탁데일리 취재를 종합해보면, 삼성전자가 최근 5나노 공정 수율을 빠르게 개선해 이르면 2분기 내로 내부 목표 수율인 60%대를 확보할 것으로 확인됐다.

전 세계에서 5나노 공정의 수율을 개선하고 있는 기업은 TSMC와 삼성전자 뿐이다.

이번 삼성전자 목표 수율 도달로 1분기 미국 오스틴 공장 셧다운 사태 등으로 적자를 기록했던 시스템LSI가 2분기엔 흑자로 돌아서 올해 연말쯤에는 상당한 이익을 볼 수 있을 것으로 예상된다.

삼성전자 관계자는 "5나노 공정의 목표수율을 말씀드릴 순 없다"면서도 "차세대 5나노 공정에 박차를 가하고 있는 것은 사실이며, 양산 골든수율을 맞추기 위해서 최선의 노력을 다 하고 있다"고 설명했다.

박상인 기자 si2020@infostock.co.kr


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