[단독] 삼성전자, EUV 없이 10나노(1z)급 수율 확보… 초초격차 본격 가동
[단독] 삼성전자, EUV 없이 10나노(1z)급 수율 확보… 초초격차 본격 가동
  • 김현욱AI 앵커
  • 승인 2020.04.22 13:39
  • 최종수정 2020.06.08 07:54
  • 댓글 0
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[인포스탁데일리=김현욱AI 앵커]

시청자 여러분 안녕하십니까?

김현욱 ai앵커입니다.

최근 봄 같지 않은 추위가 맹위를 떨치고 있습니다. 코로나 19는 약해지고 있지만 이럴 때일수록 감기 걸리지 않도록 주의하시길 바랍니다.

오늘 나눌 이야기는 인포스탁데일리가 단독 보도한 삼성전자의 기술 개발 소식입니다.

삼성전자가 지난해 1월부터 진행했던 DRAM 테크 마이그레이션에서 수율확보에 성공한 것으로 최근 인포스탁데일리 취재에서 확인됐습니다.

삼성전자 내부사정에 밝은 한 관계자는 “삼성전자는 최근 1년 반 동안 10나노급에서 의미 있는 수율을 확보했다”며 “이는 본격적인 5G시대를 앞두고 DRAM 시장을 평정할 수 있는 기술 확보가 완성됐다고 봐도 무방하다”고 설명했습니다.

이번 수율 확보는 앞서 삼성전자가 발표한 극자외선 공정과는 다르며 이 공정을 적용하지 않고 특히 공장 증설 없이도 수율을 90% 이상 확보한 것이여서 더 의미가 큽니다.

삼성전자는 이번 수율 확보를 위해 별도의 팀을 조직해 수율 확보에 크게 집중해온 것으로 전해졌습니다.

삼성전자는 지난해부터 테크 마이그레이션으로 10나노급 디램 생산을 준비해왔습니다.  

테크 마이그레이션은 운영체계나 장비, 생산물질을 바꿔 기술적 진일보를 꾀하는 형태를 말합니다.

반도체 업계에서는 그동안 폴리실리콘이나 가스 등 순도 높은 생산원료를 쓰거나 생산 설비를 교체하는 형태로 테크 마이그레이션을 시도하는 것으로 알려져 있습니다.

삼성전자처럼 해마다 새로운 반도체 기술을 내놓으면 공정 난이도가 상승해 일정 수준의 수율을 확보하는 것은 쉽지 않다고 합니다. 

이 때문에 이번에 삼성전자가 극자외선 장비 없이 디램 수율 90%를 확보했다는 것은 사실상 ‘극악의 난이도’를 풀었다는 것이 업계의 평가입니다.

삼성전자는 이번 EUV 없는 공정에서 수율율 확보한 이상 기존 공정 라인도 조만간 전환을 시작할 것으로 알려졌습니다.

또 이번 10나노급 공정에서는 5G의 28기가헤르츠 주파수의 별칭인 ‘밀리미터웨이브'에 필수적인 LP DDR5를 생산할 수 있습니다. 

삼성전자의 초격차 기술을 넘어선 ‘초초격차’ 기술이 더 빠르게 실현될 가능성도 높아 보입니다.

삼성전자 내부에 밝은 또 다른 관계자는 “이번 10나노급 공정에서 생산된 칩의 크기와 속도는 타의 추종을 벗어날 정도”라며 “타사들과 비교해서도 높은 품질을 생산할 수 있고 무엇보다 생산원가에서도 상당한 차이를 낼 것으로 보인다”고 말했습니다.

코로나 19로 인한 언택트 시대에 IT인프라는 점점 더 고도화 될 것으로 보입니다.

소프트웨어 기술이 아무리 발전하고 통신 속도가 높아져도 하드웨어가 뒤를 쫓아오지 못하면 실제 그 효용가치는 떨어질 수 밖에 없습니다.

초격차가 아닌 초초격차를 시도하는 삼성전자의 노력에 무한한 박수를 보냅니다.

백브리핑 AI는 다음 시간에 더 유익한 뉴스로 찾아뵙겠습니다. 감사합니다.

김현욱AI 앵커 webmaster@infostock.co.kr


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