[단독] 삼성전자, EUV 없이 10나노(1z)급 수율 확보… 초초격차 본격 가동
[단독] 삼성전자, EUV 없이 10나노(1z)급 수율 확보… 초초격차 본격 가동
  • 이형진 선임기자
  • 승인 2020.04.21 08:45
  • 최종수정 2020.04.21 11:28
  • 댓글 0
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삼성전자 화성사업자 전경. 사진= 삼성전자
삼성전자 화성사업장 전경. 사진= 삼성전자

[인포스탁데일리=이형진 선임기자] 삼성전자가 지난해 1월부터 진행했던 DRAM 테크 마이그레이션에서 수율(완성된 양품의 비율) 확보에 성공한 것으로 최근 인포스탁데일리 취재에서 확인됐다.

삼성전자 내부사정에 밝은 한 관계자는 “삼성전자는 최근 1년 반 동안 10나노(1z)급에서 의미 있는 수율을 확보했다”며 “이는 본격적인 5G시대를 앞두고 DRAM 시장을 평정할 수 있는 기술 확보가 완성됐다고 봐도 무방하다”고 설명했다.

이번 수율 확보는 앞서 삼성전자가 발표한 극자외선(EUV, extreme ultraviolet) 공정과는 다르며 EUV 공정을 적용하지 않고 특히 공장 증설 없이도 수율을 90% 이상 확보한 것이다.

삼성전자는 이번 수율 확보를 위해 별도의 팀을 조직해 수율 확보에 크게 집중해온 것으로 전해졌다.

삼성전자는 지난해부터 테크 마이그레이션으로 10나노급 DRAM 생산을 준비해왔다. 테크 마이그레이션은 운영체계나 장비, 생산물질을 바꿔 기술적 진일보를 꾀하는 형태를 말한다.

반도체 업계에서는 폴리실리콘이나 가스 등 순도 높은 생산원료를 쓰거나 생산 설비를 교체하는 형태로 테크 마이그레이션을 시도하는 것으로 알려져 있다.

삼성전자처럼 해마다 새로운 반도체 기술을 내놓으면 공정 난이도가 상승해 일정 수준의 수율을 확보하는 것은 쉽지 않다. 이 때문에 이번에 삼성전자가 EUV 없이 DRAM 수율 90%를 확보했다는 것은 사실상 ‘극악의 난이도’를 풀었다는 것이 업계의 평가다.

삼성전자는 이번 EUV 없는 공정에서 수율율 확보한 이상 기존 공정 라인도 조만간 전환을 시작할 것으로 알려졌다.

또 이번 10나노급 공정에서는 5G의 28㎓ 주파수의 별칭인 ‘밀리미터웨이브(mmwave•초고주파대역)’에 필수적인 LPDDR5를 생산할 수 있다. 삼성전자의 초(超)격차 기술을 넘어선 ‘초초격차’ 기술이 더 빠르게 실현될 가능성도 높다.

삼성전자 내부에 밝은 또 다른 관계자는 “이번 10나노급 공정에서 생산된 칩의 크기와 속도는 타의 추종을 벗어날 정도”라며 “타사들과 비교해서도 높은 품질을 생산할 수 있고 무엇보다 생산원가에서도 상당한 차이를 낼 것으로 보인다”고 말했다.

이형진 선임기자 magicbullet@infostock.co.kr


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