[인포스탁데일리=이강욱 전문기자] 삼성전자가 EUV(Extreme Ultra Violet·극자외선) 기술을 기반으로 ‘5나노(nm) 공정’ 개발에 성공했다고 16일 밝혔다.
이번에 개발한 차세대 ‘5나노 공정’은 셀 설계 최적화를 통해 기존 7나노 공정 대비 로직 면적을 25% 줄일 수 있다. 20% 향상된 전력 효율 또는 10% 향상된 성능을 제공한다.
특히 7나노 공정에 적용된 설계 자산(IP)을 활용할 수 있어 기존 7나노 공정을 사용하는 고객은 5나노 공정의 설계 비용을 줄일 수 있다.
삼성전자는 7나노와 6나노 파운드리 공정에서도 양산을 본격화하고 있다. 삼성전자는 올해 초 업계 최초로 EUV 공정을 적용한 7나노 제품 양산을 시작했다. 이달 중에 본격 출하할 계획이다.
6나노 공정 기반 제품에 대해서는 대형 고객과 생산 협의를 진행하고 중이다. 제품 설계가 완료돼(Tape-Out) 올해 하반기 양산할 예정이다.
삼성전자는 첨단 초미세 공정 파운드리 생산의 핵심 기술을 확보함에 따라 국내 시스템 반도체 생태계가 강화되는 동시에 시스템 반도체 역량도 높아지는 효과도 기대하고 있다.
파운드리 사업은 반도체 장비, 소재, 디자인, 패키징, 테스트 등 다양한 전문 업체들이 함께 성장해야 하므로 전후방 연관 효과가 크다.
삼성전자는 1장의 웨이퍼에 여러 종류의 반도체 제품을 생산하는 ‘MPW(Multi Project Wafer) 서비스’를 최신 5나노 공정까지 확대 제공해 고객이 더 편리하게 최첨단 반도체를 제작할 수 있도록 지원한다.
또한 삼성전자 파운드리 지원 프로그램인 ‘SAFE TM(Samsung Advanced Foundry Ecosystem)’를 통해 설계 자산 외에도 공정 설계 키트(PDK), 설계 방법론(DM), 자동화 설계 툴(EDA) 등 5나노 공정 기반 제품 설계를 돕는 디자인 인프라를 제공한다.
팹리스 고객들은 이를 활용해 보다 쉽고 빠르게 제품을 설계할 수 있고 신제품 출시 시기도 앞당길 수 있다.
삼성전자의 이런 서비스와 생산기술은 국내 팹리스 업체들이 글로벌 시장에서 경쟁할 수 있는 시스템 반도체를 내놓는 데 큰 도움을 줄 것으로 보인다.
배영창 삼성전자 파운드리사업부 전략마케팅팀 부사장은 “삼성전자의 EUV 기반 최첨단 공정은 성능과 설계 자산 등에서 다양한 강점을 보유해 높은 수요가 예상된다”며 “앞으로도 첨단 공정 솔루션으로 미래 시스템 반도체 산업을 이끌어 나갈 것"이라고 말했다.
이강욱 전문기자 gaguzi@naver.com
